虚拟现实(Virtual Reality)制作平台VEStudio2.2 正式版

　　VEStudio虚拟仿真创作平台特性：

　　【全新引擎升级】

　　支持DX,更好的兼容性。

　　支持WinXP，Win7操作系统。

　　支持32位、64位的MAX插件。

　　子属性编辑。

　　自动dds纹理优化工具。

　　PS联动编辑纹理实时修改。

　　【次世代画面】

　　实时光影、雾效、凹凸、offsetting、反射贴图、BLOOM、SSAO、DOF、GodRays特效、水面、镜面、环境反射渲染。

　　【组件式场景搭建】

　　标准模型、库模型、粒子模板、材质模板。

　　【材质系统】

　　次世代、水面、混合（支持MAX合成材质导出为VES的混合材质。）、swf材质（场景中视频如电视画面、等离子广告）、玻璃、天空、卡通等。

　　【粒子系统】

　　可视化编辑。

　　【物理碰撞】

　　碰撞导航、角色漫游导航、人工智能。

　　【全新GUI界面与脚本交互】

　　支持Flash格式GUI界面、自定义菜单交互、鼠标交互、界面自动缩放。

　　【主模块】

　　人工智能（Artificial Intelligence）、交互物体、体积云、海洋模块、海量场景。

　　【场景发布】

　　数据安全：

　　场景加密输出、版权声明保护 。

　　网页发布：

　　自动更新主程序、场景缓存模式、智能化便捷的发布模式。

　　【教程指南】

　　软件附带全新chm帮助文档、平台自带多个可编辑案例场景。

　　VEStudio2.2正式版：

　　继续修改了Alpha版以后已知的Bug。

　　修改提升了阴影的效率。

　　增加了PS特效。

　　增加了顶点/纹理动画及相关脚本函数。

　　增加了高光贴图支持。

　　增加了SketchUp的模型导出插件。

　　增加了例子[动画大观]。

　　支持自定义加载界面。

　　…